CIQTEK Showcases Electron Microscopy Solutions at The Minerals, Metals & Materials Society (TMS) 2026, USA
CIQTEK Showcases Electron Microscopy Solutions at The Minerals, Metals & Materials Society (TMS) 2026, USA
March 18, 2026
CIQTEK participated in the TMS 2026 Annual Meeting & Exhibition, held from March 15–19, 2026 in San Diego, California, USA. Our U.S. team and local distribution partner welcomed visitors at Booth #307, where we presented our latest electron microscopy solutions for materials science applications.
About TMS 2026
Organized by The Minerals, Metals & Materials Society (TMS), this annual meeting is a key event for the global materials science community. It brings together researchers, engineers, and industry professionals working in areas such as metallurgy, advanced materials, additive manufacturing, and characterization technologies.
The event provides a strong platform for exchanging ideas, discovering new technologies, and discussing real-world challenges in materials research and production.
Tailored SEM Solutions for Materials Research
CIQTEK showcased electron microscopy solutions designed to support a wide range of materials science applications.
Our systems are well-suited for:
Microstructure analysis of metals and alloys
Failure analysis and defect investigation
Powder and particle characterization
Additive manufacturing and new materials research
Many visitors were particularly interested in how CIQTEK systems deliver stable imaging performance while remaining easy to operate. For labs balancing performance, usability, and budget, this combination is especially important.
We also had in-depth discussions with users about their daily challenges, such as improving imaging efficiency, simplifying workflows, and handling complex samples. These conversations help us better align our solutions with real application needs.
Strong Local Presence and Support in the U.S.
Participation in TMS 2026 is part of CIQTEK's broader strategy to expand its electron microscopy business in the U.S. market.
We offer:
A U.S.-based demo center for hands-on evaluation
U.S. Local technical and application support
Faster response for service and training
We continue to invest in local teams, infrastructure, and partnerships to support researchers and industry users better. By combining competitive technology with localized service, CIQTEK aims to make high-quality electron microscopy more accessible across North America.
Ultrahohe Auflösung Wolframfilament-Rasterelektronenmikroskop Der CIQTEK SEM3300 Rasterelektronenmikroskop (REM) Das System nutzt Technologien wie Supertunnel-Elektronenoptik, Inlens-Elektronendetektoren und elektrostatische und elektromagnetische Verbundobjektive. Durch die Anwendung dieser Technologien auf das Wolframfilament-Mikroskop wird die langjährige Auflösungsgrenze solcher Rasterelektronenmikroskope überschritten. Dadurch können mit dem Wolframfilament-REM Niederspannungsanalysen durchgeführt werden, die bisher nur mit Feldemissions-REMs möglich waren.
Ga + Fokussiertes Ionenstrahl-Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop Der CIQTEK DB550 Fokussiertes Ionenstrahl-Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) verfügt über eine fokussierte Ionenstrahlsäule für die Nanoanalyse und Probenvorbereitung. Es nutzt die „Supertunnel“-Elektronenoptiktechnologie, geringe Aberration und ein nichtmagnetisches Objektivdesign und verfügt über die Funktion „Niedrigspannung, hohe Auflösung“, um seine analytischen Fähigkeiten im Nanomaßstab sicherzustellen. Die Ionensäulen ermöglichen eine Ga + Flüssigmetallionenquelle mit hochstabilen und hochwertigen Ionenstrahlen zur Gewährleistung der Nanofabrikationsfähigkeit. Der DB550 ist eine All-in-One-Workstation für Nanoanalyse und -herstellung mit integriertem Nanomanipulator, Gasinjektionssystem und benutzerfreundlicher GUI-Software.
Ultrahochauflösende Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopie (FESEM) Der CIQTEK SEM5000X ist ein ultrahochauflösendes FESEM mit optimiertem Elektronenoptiksäulendesign, das die Gesamtaberrationen um 30 % reduziert und eine ultrahohe Auflösung von 0,6 nm bei 15 kV und 1,0 nm bei 1 kV erreicht. Seine hohe Auflösung und Stabilität machen es vorteilhaft für die Forschung an fortschrittlichen nanostrukturellen Materialien sowie für die Entwicklung und Herstellung hochtechnologischer Halbleiter-IC-Chips.
Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen, fordern Sie ein Angebot an oder buchen Sie eine Online-Demo! Wir werden Ihnen so schnell wie möglich antworten.
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