CIQTEK stellt auf dem 16. ASEM-Workshop 2026 in Österreich aus.
CIQTEK stellt auf dem 16. ASEM-Workshop 2026 in Österreich aus.
March 12, 2026
CIQTEK
wird teilnehmen
16.
Österreichische Gesellschaft für Elektronenmikroskopie (
ASEM) Workshop über fortgeschrittene Elektronenmikroskopie
, die am
20.–21. April 2026
, bei der
Institut für Wissenschaft und Technologie Österreich
(ISTA)
In
Klosterneuburg
,
Österreich
Die
Der Workshop bringt Forscher, Ingenieure und Mikroskopieexperten zusammen, um die neuesten Fortschritte in der
Technologien der Elektronenmikroskopie, SEM-Bildgebung und wissenschaftliche Anwendungen
Die
Präsentation der Elektronenmikroskopie-Lösungen von CIQTEK
Bei der Veranstaltung
CIQTEK-Team für Elektronenmikroskopie in der EU
wird seine
Rasterelektronenmikroskopie (REM)
Und
Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop (FE-Rasterelektronenmikroskop)
Systeme
, wobei Anwendungen hervorgehoben werden in
Materialwissenschaften, Nanotechnologie, Halbleiterforschung und Lebenswissenschaften
Die Teilnehmer können sich über die leistungsstarken, zuverlässigen und benutzerfreundlichen Elektronenmikroskope von CIQTEK informieren, die für vielfältige Forschungsanforderungen entwickelt wurden.
Darüber hinaus wird Dr. Fengfa Yao, leitender Wissenschaftler für EM-Lösungen aus dem CIQTEK EU-Elektronenmikroskopie-Team, einen technischen Vortrag mit dem Titel „
Die Leistungsfähigkeit einzigartiger Hochgeschwindigkeits-Rasterelektronenmikroskopie ohne Kompromisse bei der Bildauflösung bei niedrigen kV-Werten für großflächige Volumenmikroskopieanwendungen von CIQTEK nutzbar machen
„Der Vortrag wird die neuesten Fortschritte von CIQTEK vorstellen.“
Hochgeschwindigkeits-REM-Bildgebung
und demonstriert, wie Forscher eine schnelle Datenerfassung bei gleichzeitig exzellenter Bildauflösung bei niedrigen kV-Werten erreichen können, was für entscheidend ist
Anwendungen der großflächigen Volumenmikroskopie
Die
Spezielle Unterstützung für die DACH-Region
Um europäische Kunden besser bedienen zu können, hat CIQTEK
hat sein eigenes Team für Elektronenmikroskopie in der DACH-Region (Deutschland, Österreich, Schweiz) gegründet und baut es stetig aus.
, die
Lokalisierter Vertrieb, technischer Support und Service
Dies gewährleistet eine schnelle Reaktion und maßgeschneiderte Lösungen für Forschungsinstitute und Labore in der gesamten Region.
Veranstaltungsinformationen
Ereignis
:
16. ASEM-Workshop über fortgeschrittene Elektronenmikroskopie
Datum: 20.–21. April 2026
Standort:
Institut für Wissenschaft und Technologie Österreich
(ISTA),
Klosterneuburg
,
Österreich
Hochleistungs- und Universal-SEM mit Wolframfilament Mikroskop Der CIQTEK SEM3200 SEM-Mikroskop ist ein hervorragendes universelles Wolframfilament-Rasterelektronenmikroskop (REM) mit herausragenden Gesamtfunktionen. Seine einzigartige Doppelanoden-Elektronenkanonenstruktur sorgt für eine hohe Auflösung und verbessert das Bild-Rausch-Verhältnis bei niedrigen Anregungsspannungen. Darüber hinaus bietet es eine breite Palette an optionalem Zubehör, was das SEM3200 zu einem vielseitigen Analysegerät mit hervorragenden Erweiterungsmöglichkeiten macht.
Ga + Fokussiertes Ionenstrahl-Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop Der CIQTEK DB550 Fokussiertes Ionenstrahl-Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) verfügt über eine fokussierte Ionenstrahlsäule für die Nanoanalyse und Probenvorbereitung. Es nutzt die „Supertunnel“-Elektronenoptiktechnologie, geringe Aberration und ein nichtmagnetisches Objektivdesign und verfügt über die Funktion „Niedrigspannung, hohe Auflösung“, um seine analytischen Fähigkeiten im Nanomaßstab sicherzustellen. Die Ionensäulen ermöglichen eine Ga + Flüssigmetallionenquelle mit hochstabilen und hochwertigen Ionenstrahlen zur Gewährleistung der Nanofabrikationsfähigkeit. Der DB550 ist eine All-in-One-Workstation für Nanoanalyse und -herstellung mit integriertem Nanomanipulator, Gasinjektionssystem und benutzerfreundlicher GUI-Software.
Ultrahochauflösende Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopie (FESEM) Der CIQTEK SEM5000X ist ein ultrahochauflösendes FESEM mit optimiertem Elektronenoptiksäulendesign, das die Gesamtaberrationen um 30 % reduziert und eine ultrahohe Auflösung von 0,6 nm bei 15 kV und 1,0 nm bei 1 kV erreicht. Seine hohe Auflösung und Stabilität machen es vorteilhaft für die Forschung an fortschrittlichen nanostrukturellen Materialien sowie für die Entwicklung und Herstellung hochtechnologischer Halbleiter-IC-Chips.
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