CIQTEK bringt 8-Zoll-Wafer-Dual-Beam-Lösung für Vollbildbeobachtung, Präzisionsschneiden und umfassende Verarbeitung auf den Markt

Mit der Weiterentwicklung feinerer Prozessknoten in der Halbleiterfertigung sind die Fehleranalyse auf Waferebene, die Fehlerortung und die Mikro-Nano-Fertigung zu Schlüsselfaktoren für die Verbesserung der Ausbeute geworden. CIQTEK stellt die 8-Zoll-Wafer-Dual-Beam-Vollgrößen-Verarbeitungslösung , das hochauflösende Bildgebung und präzise Ionenstrahlverarbeitung kombiniert, um ein „Beobachtungs-Analyse-Schneiden“ über den gesamten Wafer zu erreichen und so eine starke technische Unterstützung für fortschrittliche Halbleiterprozesse bietet.

Diese Lösung verfügt über einen hochpräzisen Probentisch mit 150 mm Hub, der die zerstörungsfreie Beobachtung und Bearbeitung von 8-Zoll-Wafern ermöglicht. Ein externes optisches Navigationssystem und intelligente Antikollisionsalgorithmen gewährleisten eine schnelle und präzise Waferpositionierung sowie einen sicheren Betrieb. Das System ist mit einer Schottky-Feldemissions-Elektronenkanone ausgestattet, die eine Auflösung von 0,9 nm bei 15 kV und eine Ionenstrahlauflösung von 3 nm bei 30 kV bietet und Defekterkennung, Querschnittsanalyse und die Herstellung von Mikrostrukturen im Nanomaßstab ermöglicht.

Hauptvorteile:

• 150-mm-Verfahrtisch:

• • Kombiniert lange Wege mit hoher Präzision für einen großen Beobachtungsbereich.

  • Hervorragende Kompatibilität mit Vorrichtungen unterschiedlicher Größe.

  • Die robuste Struktur gewährleistet Waferstabilität und schnelles, zuverlässiges Laden.

• 8-Zoll-Schnellwechsel:

  • Intelligentes, gewichtstragendes Design mit Gleitbasis für Stabilität und Haltbarkeit.

  • Volle Größenkompatibilität: Unterstützt 2/4/6/8-Zoll-Wafer.

  • Schneller Probenwechsel: Vakuumpumpen und Probenladen innerhalb einer Minute.

• Software und Kollisionsschutz:

• • Vollautomatische intelligente Navigation mit präziser Bewegung und Positionierung.

  • Koordinierte Mehrachsenbewegung zur Beobachtung des gesamten Wafers.

  • Intelligenter Kollisionsschutz: Flugbahnsimulation und algorithmische Raumberechnungen zur Risikovermeidung.

  • Mehrfache Echtzeitüberwachung: Echtzeitüberwachung der Waferposition aus mehreren Winkeln.

• Externe optische Navigation:

  • Das ultrastabile Strukturdesign unterdrückt Bildverwacklungen.

  • Hochauflösende Bildgebung mit präzisem Sichtfeld für die Vollwaferanzeige.

  • Professionelle Blendschutzbeleuchtung reduziert die Reflexion auf der Waferoberfläche.

Wafer-Beobachtungsbereich

CIQTEK-Lösung für Zweistrahl-Elektronenmikroskope kombiniert herausragende Hardware mit intelligenten Softwaresystemen und ermöglicht so eine effiziente Fehlererkennung und Prozessoptimierung durch Helligkeits- und Kontrastanpassung mit nur einem Klick, Autofokus und Bildausgabe in mehreren Formaten. So können Benutzer die gesamte Aufgabenkette von der Fehlererkennung bis zur Prozessoptimierung abschließen.